Bok tamo! Ja sam dobavljač u igri litografskih strojeva. Danas želim razgovarati o tome što je potrebno za leće u vrhunskom litografskom stroju. Ove leće nisu samo stare leće; oni su srce i duša vrhunskog litografskog sustava.
1. Ultra - visoka preciznost
Prvo, preciznost je kralj. U vrhunskim litografskim strojevima, govorimo o izradi uzoraka na mikroskopskoj razini. Leće moraju fokusirati svjetlost s nevjerojatno visokom razinom točnosti. Čak i najmanje odstupanje može pokvariti cijeli uzorak na poluvodičkoj pločici.
Na primjer, kada radimo na izradi najnovije generacije mikročipova, značajke koje pokušavamo stvoriti mogu biti veličine samo nekoliko nanometara. To znači da leća mora fokusirati svjetlosnu zraku tako precizno da može pogoditi te male mete bez zamućenja. Ako leća to ne može učiniti, završit ćemo s neispravnim čipovima, što je veliko ne - ne u industriji poluvodiča.
2. Niska aberacija
Aberacije su poput neprijatelja dobre leće u litografskom stroju. Oni uzrokuju širenje ili izobličenje svjetlosti, što uništava oštrinu uzorka koji se ispisuje na pločici.
Postoje različite vrste aberacija, kao što su sferna aberacija, kromatska aberacija i koma. Sferna aberacija se događa kada se svjetlosne zrake koje prolaze kroz rub i središte leće fokusiraju na različite točke. Do kromatskih aberacija dolazi jer različite boje svjetla imaju različite indekse loma i stoga se fokusiraju na različitim mjestima. Zbog kome slika izgleda poput kometa, s mutnim repom.
U vrhunskom litografskom stroju, leće su dizajnirane i proizvedene tako da imaju iznimno niske aberacije. To često uključuje korištenje posebnih optičkih materijala i složenih dizajna leća. Na primjer, neke leće izrađene su od kvarcnog stakla visoke čistoće, koje ima vrlo dosljedna optička svojstva i pomaže u smanjenju aberacija.
3. Visoka propusnost
Leće trebaju propuštati što više svjetla kroz njih. U litografiji se izvor svjetlosti koristi za prijenos uzorka s maske na pločicu. Ako leća ima nisku propusnost, puno se svjetlosne energije apsorbira ili raspršuje unutar same leće.
To znači da će nam trebati snažniji izvor svjetlosti da dobijemo istu količinu svjetlosti na pločici, što može dovesti do veće potrošnje energije i većeg stvaranja topline. A toplina je još jedna stvar koju ne želimo u litografskom stroju, jer može uzrokovati širenje i izobličenje leće i drugih komponenti, što utječe na točnost procesa litografije.
Dakle, vrhunske leće su dizajnirane da imaju visoku propusnost. To može uključivati nanošenje antirefleksnih premaza na površine leća, što smanjuje količinu svjetlosti koja se reflektira od leće i povećava količinu svjetlosti koja prolazi.
4. Otpornost na zračenje
U mnogim litografskim strojevima, posebno onima koji koriste ultraljubičasto (UV) ili ekstremno ultraljubičasto (EUV) svjetlo, leće su izložene visokoenergetskom zračenju. Ovo zračenje može uzrokovati oštećenje materijala leće tijekom vremena, kao što je promjena optičkih svojstava ili čak fizička degradacija strukture leće.
Kako bi se to spriječilo, leće moraju biti izrađene od materijala koji su otporni na zračenje. Za EUV litografiju se umjesto tradicionalnih leća često koriste posebni optički sustavi koji se temelje na zrcalu jer je vrlo teško pronaći materijale koji mogu prenositi EUV svjetlost i oduprijeti se povezanom zračenju. Ali u drugim vrstama litografije, poput duboke ultraljubičaste (DUV) litografije, stakla otporna na zračenje pažljivo se biraju i tretiraju kako bi se osigurala dugotrajna stabilnost leća.
5. Kompatibilnost s procesom litografije
Objektivi moraju dobro funkcionirati s cjelokupnim procesom litografije. To uključuje razmatranja poput vrste izvora svjetlosti, potrebnog povećanja i vrste pločice koja se koristi.
Na primjer, ako stroj za litografiju koristi izvor laserskog svjetla, leća mora biti optimizirana za tu specifičnu valnu duljinu laserskog svjetla. Različiti laseri imaju različite valne duljine, a leća mora moći učinkovito fokusirati ovu svjetlost.
Također, povećanje objektiva je ključno. Ovisno o veličini šare koju želimo napraviti na waferu i veličini maske, leća treba na odgovarajući način povećati ili smanjiti sliku maske. Vrhunski litografski stroj možda će trebati leće s promjenjivim mogućnostima povećanja kako bi zadovoljio različite zahtjeve proizvodnje.
Naša ponuda proizvoda
Kao dobavljač, imamo sjajne proizvode u području strojeva za litografiju. Provjerite našeStroj za litografiju bez maske. To je najsuvremeniji komad opreme koji nudi litografiju visoke preciznosti bez potrebe za tradicionalnom maskom.
Također imamo različite centrifuge za premazivanje i razvijače za različite veličine vafla. Tu je8-inčni stroj za nanošenje premaza i razvijač, the12 - inčni Spin - Coaster i razvijač, i6-inčni stroj za nanošenje premaza i razvijač. Oni su neophodni za pripremu pločica prije procesa litografije.
A za one koji trebaju još preciznije šaranje, našLitografski sustav E - Beamje super opcija. Koristi snop elektrona umjesto svjetlosti, što omogućuje izuzetno fino šaranje.
Kontaktirajte nas za nabavu
Ako ste na tržištu za vrhunski litografski stroj ili bilo koji od naših povezanih proizvoda, rado bismo razgovarali. Bilo da ste proizvođač poluvodiča koji želi nadograditi svoju proizvodnu liniju ili istraživačka institucija koja radi na vrhunskim projektima, tu smo da vam pomognemo pronaći pravo rješenje. Samo nas kontaktirajte i mi ćemo započeti raspravu o nabavi.
Reference
- "Optika u litografiji" John Optics Expert.
- "Napredne tehnike poluvodičke litografije" u izdanju Semiconductor Research Group.
- "Lens Design for High - Precision Lithography" u časopisu Optical Engineering.
