Dobavljači opreme za mjerenje i analizu u Kini

Vaš profesionalni dobavljač opreme za mjerenje i analizu

Nice-tech profesionalni je dobavljač poluvodičke opreme s posvećenom tvornicom i iskusnim tehničkim timom. Naše operacije podupiru višestruke proizvodne linije opremljene standardiziranom kontrolom procesa i ključnom-opremom povezanom s poluvodičima kako bi se osigurala stabilna kvaliteta i isporuka. Poduzeće ima potporu stručnog tima inženjera, tehničara i projektnih stručnjaka sa solidnim iskustvom u industriji, što omogućuje učinkovitu koordinaciju između dobavljača opreme i krajnjih korisnika.

VPD sustav
VPD sustav tvrtke Nice-Tech predstavlja temeljni alat za inspekciju za kontrolu kontaminacije metala u tragovima poluvodiča—sagrađen posebno za povećanje osjetljivosti detekcije za naprednu proizvodnju integriranih sklopova.
vidi više

zašto odabrati nas

Isporuka rješenja po mjeri

Naš iskusni tim analizira specifične potrebe klijenata kako bi uskladio najprikladniju poluvodičku opremu i ponudio prilagođena rješenja za različite scenarije proizvodnje i istraživanja i razvoja.

Sveobuhvatna tehnička podrška

Pružamo puni-ciklus tehničke pomoći, od puštanja opreme u pogon do održavanja, uključujući-otklanjanje problema na licu mjesta i-online savjetovanje u stvarnom-vremenu, smanjujući operativne probleme.

Podrška za napredne procese

Kontinuirano ulažemo u uvide u industriju i prilagođavamo se najnovijim-tehnološkim trendovima, nudeći visoko-precizna rješenja za opremu i usluge nadogradnje kako bismo zadovoljili-potrebe vrhunske proizvodnje čipova.

Prednosti usluge

Ponudite online podršku 1v1 za rad opreme, podešavanje parametara i optimizaciju procesa, odgovarajući na vaša pitanja promptno.

VPD sustav

VPD (Vapor Phase Decomposition) sustav je osnovni alat za otkrivanje za kontrolu kontaminacije tragovima metala u proizvodnji poluvodiča. Koristi kombinaciju kemijske parne faze razgradnje i masene spektrometrije visoke-osjetljivosti za postizanje precizne detekcije i praćenja ultra-tragova kontaminacije metala na površinama ploča.

Kategorija	VPD sustav
Kompatibilnost vafla	8-inčni, 12-inčni (nativni); 6 inča (opcionalno, putem namjenskih ladica)
Granica detekcije (s ICP-MS/MS)	10⁵-10⁸ atoma/cm²; pokriva elemente 7Li do 238U
Tijek rada procesa	Razgradnja parne faze → Precizno skeniranje kapljica → Skupljanje onečišćenja
Puno-vrijeme obrade napolitanki	Manje od ili jednako 60 sekundi (radijalna mlaznica za brzo-skeniranje)
Načini uzorkovanja	Puna-pločica, zonalna, prstenasta; podržava sakupljanje područja rubova/kosina
Sredstvo razgradnje	HF para visoke-čistoće (kontrolirana koncentracija i brzina protoka)
Kompatibilni alati za analizu	ICP-MS, ICP-MS/MS, TXRF
Protokol automatizacije	Podržava SECS-GEM; integrirati u automatizirane proizvodne linije poluvodiča
Sukladnost industrije	U skladu sa SEMI standardima
Primjenjive vrste vafla	Gole pločice, pločice s uzorkom, pločice s debelim oksidnim slojem, pločice od novih materijala

Prednosti VPD sustava

Ultra{0}}niska granica otkrivanja:

Sposoban detektirati koncentracije metalne kontaminacije od samo 1 × 10⁸ atoma/cm² (ekvivalentno preciznom lociranju jednog zrnca pijeska u standardnom bazenu), s osjetljivošću 1-2 reda veličine višom od tradicionalnih metoda (kao što je TXRF).

Sveobuhvatna pokrivenost elementima:

Podržava simultanu analizu preko 70 elemenata od litija (Li) do urana (U), pokrivajući ključne kontaminante koji izazivaju zabrinutost u industriji poluvodiča.

Ne{0}}destruktivno ispitivanje:

Izbjegava kontaminaciju uvedenu mehaničkim mljevenjem putem kemijskog nagrizanja parom, osiguravajući točnost rezultata ispitivanja.

Fleksibilno uzorkovanje:

Podržava uzorkovane metode uzorkovanja kao što su potpuno skeniranje, regionalno skeniranje i prstenasto skeniranje, prilagođavajući se različitim zahtjevima procesa.

Snažna anti{0}}smetnja:

ICP-MS/MS-ova tehnologija ćelija za reakciju sudara (CRC) eliminira interferenciju masene spektrometrije, točno razlikujući izotope s istim masenim brojem (npr. ⁵²Cr i 4⁰Ar¹²C).

Primjene VPD sustava

01.

Inspekcija sirovina:

Ispitivanje sadržaja metalnih nečistoća u silicijskim pločicama po dolasku kako bi se osigurala čistoća osnovnih materijala.

02.

Front{0}}Nadgledanje procesa:

Praćenje razine kontaminacije metala na površini ploče nakon procesa kao što su oksidacija, difuzija i jetkanje kako bi se spriječilo širenje kontaminacije.

03.

Analiza ionske implantacije:

Procjena metalnih nečistoća unesenih tijekom procesa ionske implantacije i optimizacija jednolikosti dopiranja.

04.

Testiranje gotovog proizvoda:

Izvođenje analize kontaminacije metala na konačnom proizvodu kako bi se osigurao prinos i pouzdanost.

Tehnologija VPD sustava

Parna{0}}fazna razgradnja:

Pločica se stavlja u okolinu HF pare kako bi se razgradio površinski oksidni sloj (kao što je SiO₂), izlažući i taložeći metalne kontaminante (kao što su Fe, Cu, Na, itd.) na površini pločice.

Skeniranje kapljicama:

Mali volumen tekućine za skeniranje (kao što je razrijeđena otopina kiseline) kotrlja se po površini pločice kako bi se prikupili otopljeni metalni kontaminanti, tvoreći obogaćenu otopinu.

Analiza masene spektrometrije:

Obogaćena otopina se prenosi u ICP-MS (induktivno spregnuti plazma maseni spektrometar) ili ICP-MS/MS (tandemski maseni spektrometar) za kvantitativnu analizu ultra-tragova metala.

Kontrola radnog okruženja VPD sustava

Zahtjevi za razred čiste sobe:VPD-ICP-MS sustav zahtijeva iznimno čisto okruženje, obično radi u Class 100 ili lokaliziranoj Class 10 ultra{4}}clean okruženju. Ako je čistoća okoliša nedovoljna (npr. čista soba klase 1000 ili klase 10000), na rezultate ispitivanja lako utječu čestice lakih metala kao što su natrij, magnezij i kalcij u zraku, što dovodi do povećanih pozadinskih vrijednosti i smanjenih granica detekcije.

Upravljanje temperaturom i vlagom:Radno okruženje mora održavati stalnu temperaturu (22±2 stupnja ) i vlažnost (45%±5% RH) kako bi se spriječilo adsorbiranje vlage ili čestica na površinu pločice, što utječe na učinkovitost razgradnje u plinovitoj-fazi. Na primjer, visoka vlažnost može dovesti do neravnomjerne kondenzacije HF para, što rezultira nepotpunom razgradnjom oksidnog sloja.

Uzorak specifikacija pred{0}}tretmana VPD sustava

Čišćenje oblatni i pred-tretman:

Vaferi moraju proći standardne SC1 (amonijak + vodikov peroksid + ultračista voda) i SC2 (klorovodična kiselina + vodikov peroksid + ultračista voda) procese čišćenja kako bi se uklonile površinske organske tvari i metalne čestice.

Nakon čišćenja, pločice se moraju tri puta isprati ultra čistom vodom, odmah osušiti dušičnim pištoljem, a zatim prenijeti u VPD komoru kako bi se izbjegla sekundarna kontaminacija.

Ključne točke rada VPD komore:

Vrijeme izlaganja HF parama:To je potrebno prilagoditi prema debljini sloja oksidnog vafera (npr. sloj prirodnog oksida je približno 0,25 nm, sloj toplinskog oksida može doseći 100 nm), obično 5-15 minuta. Nedovoljno vremena će dovesti do nepotpune razgradnje, dok predugo vrijeme može nagrizati silicijsku podlogu.

Odabir rješenja za skeniranje:Preporučuje se 1%-tna razrijeđena otopina dušične kiseline zbog visoke stope otapanja metala i niske pozadinske vrijednosti. Treba izbjegavati reagense koji sadrže natrij i kalij kako bi se spriječila interferencija.

FAQ

P: Koji je trgovački termin za odabir?

O: FOB, EXW, CIF, CFR, DDP, DDU.

P: Podržavate li prilagođena rješenja?

O: Da, pružamo prilagođena rješenja temeljena na potrebama kupaca, bilo da se radi o specifikacijama, funkcijama ili dizajnu izgleda, s ciljem ispunjavanja specifičnih zahtjeva kupaca.

P: Koja je minimalna količina narudžbe (MOQ)?

O: MOQ varira ovisno o vrsti proizvoda. Molimo kontaktirajte naše prodajne predstavnike za najnovije detalje.

P: Koje je vrijeme isporuke?

O: Obećajemo da ćemo proizvesti u roku od 3 do 4 tjedna za proizvodnju velikih količina

P: Koji je vaš rok plaćanja?

O: Prihvaćamo plaćanje T/T ili L/C

Kao jednog od najprofesionalnijih proizvođača i dobavljača opreme za mjerenje i analizu u Kini, odlikuju nas kvalitetni proizvodi i dobra cijena. Budite uvjereni da u našoj tvornici možete kupiti prilagođenu opremu za mjerenje i analizu. Za ponudu i cjenik kontaktirajte nas sada.